高性能电子光学系统

• 二次电子分辨率: 顶位二次电子探测器(2.0 nm at 1kV)＊
• 高灵敏度: 高效PD-BSD, 超强的低加速电压性能，低至100 V成像
• 大束流(>200 nA): 便于高效微区分析

性能优异

• 压力可变: 具有优异的低真空(10 -300 Pa)成像性能，配备高灵敏度低真空探测器(UVD)＊
• 开仓室快速简单换样(大样品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH)
• 微区分析: EDS, WDS, EBSD等等

项目		内容
分辨率		1.2 nm @ 30 kV 3.0 nm @ 1 kV 2.0 nm @ 1 kV 减速模式*1 3.0 nm @ 15 kV 低真空模式*2
放大倍率		10 - 600,000× (底片倍率), 18 - 1,000,000× (800 × 600 像素) 30 - 1,500,000× (1,280 × 960 像素)
电子光学系统	电子枪	ZrO /W 肖特基式电子枪
	加速电压	0.5 - 30 kV (0.1 kV 步进)
	着陆电压	减速模式: 0.1 - 2.0 kV ＊1
	大束流	> 200 nA
探测器		低位二次电子探测器
低真空模式*2		真空范围: 10 - 300 Pa
马达台	马达台控制	5 - 轴自动 (优中心)
	可动范围	X：0～100mm Y：0～50mm Z：3～65mm T：-20～90° R：360°
	大样品尺寸	大直径: 200 mm 大高度: 80 mm
选配探测器		高分辨率顶位二次电子探测器＊1 高灵敏度低真空探测器 (UVD) 5分割半导体探测器 (PD-BSD)*3 能谱仪 (EDS) 波谱仪 (WDS) 背散射电子衍射探测器 (EBSD)

*1：

减速功能（包含高分辨率顶位二次电子探测器）

*2：

低真空功能（包含5分割半导体探测器）

*3：

空压机(本地采购)